T1500-80TIG3Z CVD系统

产品型号:T1500-80TIG3Z

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产品详情

设备简介：

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。

配置详情：

	NBD-101E嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式，非线性式样温度修正；
产品型号	CVD T1500-80TIG3Z
炉管尺寸	Φ50*1000mm
工作温度	≤1450℃
加热区尺寸	310mm
升温速率	≤20℃/min
电气规格	AC220V 3KW
气体系统（可选购）	流量计类型	浮子流量计				质量流量计
	管道示意图
	进气接口数量	2、3、4（多路可选）
	流量范围	20-250/20-800ml/min(多量程可选)				50/100/200sccm(多量程可选)
	工作压差范围	0-0.15MPa
低真空系统（可选购）	真空泵型号		NBD-1.5C	NBD-3C			NBD-4C
	抽气速率		1L/s	3L/s			4L/s
	进排气口尺寸		Φ8mm宝塔接头	Φ8mm宝塔接头			KF16/25
	压力		1000Pa	100Pa			10Pa
	工作温度		5-40℃
	电气规格		AC220V
高真空系统（可选购）	真空泵型号		NBD-103(A)	NBD-103(B)			NBD-103(C)
	抽气速率		110L/s	600L/s			700L/s
	真空测量计		复合真空计
	压力		10^-3Pa	10^-4Pa			10^-5Pa
	工作温度	5-40℃
	电气规格	AC 220V			AC 220V			AC 380V