ES01系列光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如,折射率n、消光系数k),也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
ES01系列光谱椭偏仪适合于对样品进行实时和非实时检测。
ES01系列尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发。
ES01系列多种光谱范围可满足不同应用场合。比如:
ES01系列可用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度、折射率n及消光系数k。应用领域包括:微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。典型应用如:
ES01系列也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。应用领域包括:固体(金属、半导体、介质等),或液体(纯净物或混合物)。典型应用包括:
项目
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技术指标
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光谱范围
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ES01V:370-1000nm
ES01U:245-1000nm
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光谱分辨率
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1.5nm
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单次测量时间
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典型10s,取决于测量模式
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准确度
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δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04°
(透射模式测空气时)
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膜厚测量重复性(1)
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0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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折射率精度(1)
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1x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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入射角度
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40°-90°自动调节,重复性0.02°
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光学结构
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PSCA(Δ在0°或180°附近时也具有的准确度)
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样品台尺寸
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可放置样品尺寸:直径170 mm
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样品方位调整
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高度调节范围:0-10mm
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二维俯仰调节:±4°
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样品对准
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光学自准直显微和望远对准系统
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软件
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•多语言界面切换
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•预设项目供快捷操作使用
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•安全的权限管理模式(管理员、操作员)
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•方便的材料数据库以及多种色散模型库
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•丰富的模型数据库
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选配件
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自动扫描样品台
聚焦透镜
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注:(1)测量重复性:是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。